【登录查看】亚微米紫外图形制备系统免招标采购征求意见公示申请人所在微纳与柔性器件加工测试平台，主要是面向校内外进行新型分子功能材料和微纳器件测试加工。目前，实验室承担了研发光电半导体材料的核心任务：用曝光和光刻技术制备亚微米、高精度的精确电路图。需要消除紫外光在投射到亚微米线条时的次级衍射峰，从而提高1μm及以下线宽图形时的极限分辨率和工艺成品率。曝光光强需≥40mw/cm@365nm，≥100mw/cm@Broad，曝光分辨率不高于【登录查看】μm，需要实现在6英寸、200mm和150mm的方形区域内，光强均匀性均能达到【登录查看】%。需要有杜绝漂移现象的技术，以便有效补偿芯片厚度的不同，...