高精度无掩膜光刻系统项目公告【登录查看】核心提示：1.招标条件本招标项目高精度无掩膜光刻系统该项目已1.招标条件本招标项目高精度无掩膜光刻系统该项目已具备招标条件，现对高精度无掩膜光刻系统采购进行国内公开招标。2.项目概况与招标范围【登录查看】招标编号：ZKX20260341A【登录查看】招标项目名称：高精度无掩膜光刻系统【登录查看】数量：1台【登录查看】设备用途及系统组成：设备用途：高精度无掩膜光刻系统采用先进的数字光刻技术，无需掩模版即可直接将图形转移到涂有光刻胶的衬底上。该设备具备高套刻精度和高曝光速度的特点，适用于集成光子芯片研发及量产环节中的电极图形曝光：在快速研发阶段，可高效处理大面积、低分...