项目概况磁控溅射台招标项目的潜在投标人应在【登录查看】@qq.com获取招标文件,并于【登录查看】09点30分(北京时间)前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号:JLU-WT26285项目名称:磁控溅射台预算金额:【登录查看】万元(人民币)最高限价(如有):【登录查看】万元(人民币)采购需求:序号标的名称采购包预算金额(万元)最高限价(万元)数量简要技术需求1磁控溅射台94941台本次拟采购磁控溅射台是一款通用型高真空物理气相沉积科研设备,无使用排他性,应适用于高校及科研院所的薄膜材料制备与器件研发工作。设备需要支持全自动与...
当前信息登录后可免费查看!
您还没有登录 ,请点击 登录 或 注册 后免费查看全站信息