磁控溅射台（JLU-WT26285）采购公告

--\u003E磁控溅射台（JLU-WT26285）采购公告发布时间：【登录查看】【登录查看】阅读量：671次磁控溅射台招标公告一、项目基本情况1.项目编号：JLU-WT262852.项目名称：磁控溅射台3.项目预算金额：940000元；项目最高限价：940000元4.采购需求：序号标的名称采购包预算金额（万元）最高限价（万元）数量简要技术需求1磁控溅射台94941台本次拟采购磁控溅射台是一款通用型高真空物理气相沉积科研设备，无使用排他性，应适用于高校及科研院所的薄膜材料制备与器件研发工作。设备需要支持全自动与手动双模式操作，搭载完善的安全防护系统，具备真空监测、水冷保护、参数记忆...